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  • 真空沉積爐
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真空沉積爐

應用范圍:

石墨、半導體器件、耐熱沖刷材料。

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真空沉積爐是用于制備碳碳復合材料,沉積爐主要用于石墨、半導體器件、耐熱沖刷材料的表面熱解炭涂層制備。


基本參數:

  1)設計溫度:1250℃/1650℃/1800℃/2200℃

  2)常用溫度:900~1200℃

  3)真空度:<50Pa

  4)壓升率:空爐冷態(tài)6.67Pa/h(或150Pa/24h)

  5)加熱方式:石墨電阻加熱或感應加熱,獨立控溫,溫度均勻性好

  6)氣氛介質(zhì):真空/CH4/C3H6/H2/N2/Ar

  7)控氣方式:質(zhì)量流量計控制,多通道工氣路,流場(chǎng)均勻,無(wú)沉積死角,沉積效果好;

  8)多級高效尾氣處理系統,環(huán)境友好,易清理;

  9)爐型:方形、圓形、立式或臥式結構(非標設計),全封閉沉積室,密封效果好,抗污染能力強;

  10)爐體冷卻方式:爐殼水冷,可選配外循環(huán)快冷系統,降溫時(shí)間短,生產(chǎn)效率高;


爐體結構:

  結構形式:-出料,立式-上出料/下出料

  爐門(mén)鎖緊方式:手動(dòng)/自動(dòng)

  爐殼材質(zhì):內層不銹鋼/全不銹鋼

  保溫材質(zhì):碳氈/石墨氈/碳纖維固化氈

  加熱器、馬弗材質(zhì):石墨/CFC

  紅外儀:?jiǎn)伪壬?/span>/雙比色

  電源:KGPS/IGBT(僅適用于中頻加熱)



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